Diese Website verwendet Cookies, um zu gewährleisten, dass Sie beim Besuch der Website die bestmögliche Erfahrung haben. Für weitere Informationen hierzu konsultieren Sie unsere Datenschutzbestimmungen. Um der Verwendung nicht essentieller Cookies zuzustimmen, klicken Sie bitte auf "Ich stimme zu"
VerwerfenIch stimme zu
High Purity Reinigung – weil jedes Detail zählt.
In der Halbleiter‑, Optik‑, Medizin- und Präzisionstechnik entscheidet absolute Sauberkeit über Performance und Verlässlichkeit. Wenn Bauteile mit komplexen Geometrien partikulär bis 0,5 μm und rückstandsfrei auf molekularer Ebene gereinigt werden müssen, braucht es mehr als Standardtechnik: Wir bei BvL verbinden Prozess‑ und Materialverständnis mit passgenauer Anlagentechnik und richten den Reinigungsprozess exakt auf Ihre Anforderungen aus.
Ihre Anforderungen:
Reinheit bis Grade 1 – prozesssicher, validierbar, nahtlos integrierbar
Steigende Anforderungen an partikuläre und molekulare Sauberkeit – beispielsweise für Grade-1-Bauteile
Komplexe Geometrien und filigrane Mikrobaugruppen sicher reinigen
Validierbare Prozesse zuverlässig dokumentieren und reproduzieren
Integration in bestehende Produktionsumgebungen oder Reinräume
Entfernung von Restorganik, bzw. Restfeuchte sowie Einhaltung atomarer/molekularer Grenzwerte
NiagaraUP
Reinraumtauglich mit VIT-Technologie
Die NiagaraUP ist ideal für Anwendungen in der Halbleiter-, Optik-, Medizin- und Präzisionstechnik – überall dort, wo höchste Sauberkeit auf minimalem Raum gefragt ist. Sie ist mit der innovativen Vakuum Impuls Technik (VIT) von BvL ausgestattet und erfüllt damit höchste Anforderungen auf partikulärer, molekularer, filmischer und atomarer Ebene. Alle Prozessschritte erfolgen platzsparend in einer Kammer. Das Anlagensystem ist in verschiedenen Größen und Konfigurationen erhältlich und lässt sich problemlos in Reinräume integrieren.
Unser innovatives Druckwechselverfahren Vakuum Impuls Technik (VIT) haben wir für Branchen entwickelt, in denen höchste Anforderungen an technische Sauberkeit gelten – oft im Mikrobereich bis auf molekulare Ebene. Hier werden rückstandsfreie Oberflächen benötigt mit validierbaren und reproduzierbaren Prozessen.
Während z. B. Ultraschallwellen in offenen Medien hervorragend wirken, stoßen sie bei tiefen Bohrungen, eng liegendem Schüttgut oder engen Kanälen an physikalische Grenzen: Die Wellen reflektieren und verlieren an Wirksamkeit. Unsere Vakuum Impuls Technik setzt hier an und ergänzt den Reinigungsprozess durch eine mechanische Tiefenwirkung, die auch dort greift, wo Ultraschall nicht hinkommt.